BEGIN:VCALENDAR
VERSION:2.0
PRODID:-//spbstu.ru//ical//RU
NAME:Расписание
X-WR-CALNAME:Расписание
TIMEZONE-ID:Europe/Moscow
X-WR-TIMEZONE:Europe/Moscow
BEGIN:VEVENT
UID:lwtd@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260413T112000Z
DTEND:20260413T130000Z
SUMMARY:Трехмерное твердотельное моделирование объектов
LOCATION:Хим. к. 56
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:v3ur@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260414T070000Z
DTEND:20260414T084000Z
SUMMARY:Планирование эксперимента
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:en8n@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260414T090000Z
DTEND:20260414T104000Z
SUMMARY:Теория и технология нанесения покрытий
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:yowg@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260414T090000Z
DTEND:20260414T104000Z
SUMMARY:Планирование эксперимента
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:ydp8@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260414T110000Z
DTEND:20260414T124000Z
SUMMARY:Теория и технология нанесения покрытий
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:0m84@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260414T130000Z
DTEND:20260414T144000Z
SUMMARY:Теплофизика
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:dvkp@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260414T150000Z
DTEND:20260414T164000Z
SUMMARY:Теплофизика
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:ni80@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260415T070000Z
DTEND:20260415T084000Z
SUMMARY:Карьерная адаптивность
LOCATION:Хим. к. 17
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:9bla@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260415T090000Z
DTEND:20260415T104000Z
SUMMARY:Моделирование технологических процессов
LOCATION:Хим. к. 56
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:tme3@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260415T110000Z
DTEND:20260415T124000Z
SUMMARY:Моделирование технологических процессов
LOCATION:Хим. к. 56
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:ncdx@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260417T070000Z
DTEND:20260417T084000Z
SUMMARY:Теория и технология нанесения покрытий
LOCATION:Хим. к. Прокатка2
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:4lpf@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260417T090000Z
DTEND:20260417T104000Z
SUMMARY:Теория и технология нанесения покрытий
LOCATION:Хим. к. Прокатка1
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:g1ui@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260503T213024Z
DTSTART:20260417T110000Z
DTEND:20260417T124000Z
SUMMARY:Теория и технология нанесения покрытий
LOCATION:Хим. к. Прокатка2
END:VEVENT
END:VCALENDAR