BEGIN:VCALENDAR
VERSION:2.0
PRODID:-//spbstu.ru//ical//RU
NAME:Расписание
X-WR-CALNAME:Расписание
TIMEZONE-ID:Europe/Moscow
X-WR-TIMEZONE:Europe/Moscow
BEGIN:VEVENT
UID:d9rl@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260413T112000Z
DTEND:20260413T130000Z
SUMMARY:Трехмерное твердотельное моделирование объектов
LOCATION:Хим. к. 56
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:att0@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260414T070000Z
DTEND:20260414T084000Z
SUMMARY:Планирование эксперимента
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:zzo8@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260414T090000Z
DTEND:20260414T104000Z
SUMMARY:Теория и технология нанесения покрытий
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:cdmk@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260414T090000Z
DTEND:20260414T104000Z
SUMMARY:Планирование эксперимента
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:amwb@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260414T110000Z
DTEND:20260414T124000Z
SUMMARY:Теория и технология нанесения покрытий
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:olkc@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260414T130000Z
DTEND:20260414T144000Z
SUMMARY:Теплофизика
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:3cxe@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260414T150000Z
DTEND:20260414T164000Z
SUMMARY:Теплофизика
LOCATION:Хим. к. 24
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:754a@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260415T070000Z
DTEND:20260415T084000Z
SUMMARY:Карьерная адаптивность
LOCATION:Хим. к. 17
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:0jck@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260415T090000Z
DTEND:20260415T104000Z
SUMMARY:Моделирование технологических процессов
LOCATION:Хим. к. 56
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:qtl0@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260415T110000Z
DTEND:20260415T124000Z
SUMMARY:Моделирование технологических процессов
LOCATION:Хим. к. 56
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:4ws4@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260417T070000Z
DTEND:20260417T084000Z
SUMMARY:Теория и технология нанесения покрытий
LOCATION:Хим. к. Прокатка2
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:m3xx@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260417T090000Z
DTEND:20260417T104000Z
SUMMARY:Теория и технология нанесения покрытий
LOCATION:Хим. к. Прокатка1
END:VEVENT
BEGIN:VEVENT
UID:f3dn@192.168.245.71:3006
SEQUENCE:0
DTSTAMP:20260619T214833Z
DTSTART:20260417T110000Z
DTEND:20260417T124000Z
SUMMARY:Теория и технология нанесения покрытий
LOCATION:Хим. к. Прокатка2
END:VEVENT
END:VCALENDAR